Розпив очищувальної маски Holy Land Special Mask

Артикул: HL235R

Розпив очищувальної маски Holy Land Special Mask

Name: Розпив очищувальної маски Holy Land Special Mask
Brand: Holy Land Cosmetics
Price: 858 UAH
Availability: OutOfStock

Немає в наявності

Артикул: HL235R

Дізнатися термін придатності

Дізнатися термін придатності

Хочу знижку

Ізраїль Masks - маски, що скорочують, для вирівнювання текстури шкіри Holy Land на розпив

Розпив Holy Land Special Mask — очищувальна маска з каоліном, сіркою, оксидом цинку та камфорою для жирної шкіри й помітних пор.

Опис
Показання
Застосування
Склад
Сертифікати якості

Опис

1–2 рази на тиждень

У картці представлено розпив Holy Land Special Mask; характеристики дії та застосування стосуються базової маски бренду. Special Mask — скорочувальна маска для жирної, пористої та проблемної шкіри, зокрема за надлишку себуму й помітних пор. Формула з каоліном, сіркою, оксидом цинку та камфорою орієнтована на абсорбцію надлишку шкірного сала, очищувальний і себорегулювальний догляд. Маски цієї групи наносять тонким рівномірним непрозорим шаром і витримують 15–20 хвилин; частота застосування — 1–2 рази на тиждень.

Основні властивості

Абсорбує надлишок шкірного сала.
Підтримує очищення пор і себорегулювальний догляд.
Насамперед підходить жирній та пористій шкірі.
Використовується як змивна скорочувальна маска.

Ключові компоненти

Каолін: мінеральна основа для абсорбції себуму.
Сірка та оксид цинку: ключові компоненти догляду за жирною та проблемною шкірою.
Камфора: доповнює освіжальну дію формули.

Приклад догляду

Після очищення нанесіть маску тонким непрозорим шаром на 15–20 хвилин, потім ретельно змийте водою та продовжте догляд лосьйоном і кремом за типом шкіри.

Показання

Призначення: Очищення, себорегулювальний догляд і візуальне звуження пор.
Тип шкіри: Жирна, пориста та проблемна шкіра, особливо за надлишку себуму.
Зона застосування: Обличчя, крім ділянки навколо очей.
Час застосування: 1–2 рази на тиждень.
Ключові компоненти: Каолін, сірка, оксид цинку, камфора.
Як використовувати: Нанести тонким непрозорим шаром на 15–20 хвилин і ретельно змити водою.

Застосування

Використовуйте 1–2 рази на тиждень. Після очищення нанесіть маску тонким рівномірним непрозорим шаром, уникаючи ділянки навколо очей. Залиште на 15–20 хвилин, потім ретельно змийте водою.

Склад

Висновок щодо складу
Мінеральна очищувальна основа поєднує каолін і оксид цинку із сіркою та камфорою. Формула орієнтована на абсорбцію надлишку себуму й догляд за жирною шкірою; спирт, камфора та очищувальний ПАР можуть бути значущими для реактивної шкіри.

Рівень уваги до складу


	▲
Низький	Помірний	Підвищений

Шкала має інформаційний характер і допомагає зрозуміти рівень уваги до складу з урахуванням компонентів, які можуть мати значення при індивідуальній чутливості.

Основні компоненти

КаолінKaolin

Абсорбувальна мінеральна основа очищувальної маски.

СіркаSulfur

Ключовий компонент догляду за жирною та проблемною шкірою.

Оксид цинкуZinc Oxide

Доповнює себорегулювальну та заспокійливу спрямованість.

КамфораCamphor

Відповідає за виражений освіжальний ефект.

Зверніть увагу

Спирт і камфораAlcohol SD-40 (Denat.) · Camphor

Можуть бути помітними для сухої, чутливої або реактивної шкіри.

Очищувальний ПАРSodium Lauryl Sulfate

Може мати значення за індивідуальної чутливості та порушеного бар’єра.

Повний склад INCI

Water (Aqua), Kaolin, Propylene Glycol, Zinc Oxide, Sulfur, Alcohol SD-40 (Denat.), Cetyl Alcohol, Camphor, Hydroxypropyl Methylcellulose, Cetearyl Alcohol, Polysorbate 20, Quartz, Methylparaben, Sodium Lauryl Sulfate, Paraffin Oil, 2-Bromo-2-Nitropropan-1,3-Diol.

Виробник може оновлювати формулу; актуальний склад завжди зазначений на упаковці товару.

Сертифікати якості