Распив очищающей маски Holy Land Special Mask
  • Описание
  • Показания
  • Применение
  • Состав
  • Сертификаты качества
Описание

1–2 раза в неделю

В карточке представлен распив Holy Land Special Mask; характеристики действия и применения относятся к базовой маске бренда. Special Mask — сокращающая маска для жирной, пористой и проблемной кожи, в том числе при избытке себума и заметных порах. Формула с каолином, серой, оксидом цинка и камфорой ориентирована на абсорбцию излишков кожного сала, очищающий и себорегулирующий уход. Маски этой группы наносят тонким равномерным непрозрачным слоем и выдерживают 15–20 минут; частота применения — 1–2 раза в неделю.

Основные свойства

  • Абсорбирует избыток кожного сала.
  • Поддерживает очищение пор и себорегулирующий уход.
  • Подходит прежде всего жирной и пористой коже.
  • Используется как смываемая сокращающая маска.

Ключевые компоненты

Каолин: минеральная основа для абсорбции себума.
Сера и оксид цинка: ключевые компоненты ухода за жирной и проблемной кожей.
Камфора: дополняет освежающее действие формулы.

Пример ухода

После очищения нанесите маску тонким непрозрачным слоем на 15–20 минут, затем тщательно смойте водой и продолжите уход лосьоном и кремом по типу кожи.

Показания
Назначение
Очищение, себорегулирующий уход и визуальное сокращение пор.
Тип кожи
Жирная, пористая и проблемная кожа, особенно при избытке себума.
Зона применения
Лицо, кроме области вокруг глаз.
Время применения
1–2 раза в неделю.
Ключевые компоненты
Каолин, сера, оксид цинка, камфора.
Как использовать
Нанести тонким непрозрачным слоем на 15–20 минут и тщательно смыть водой.
Применение

Используйте 1–2 раза в неделю. После очищения нанесите маску тонким равномерным непрозрачным слоем, избегая области вокруг глаз. Оставьте на 15–20 минут, затем тщательно смойте водой.

Состав
Вывод по составу
Минеральная очищающая основа сочетает каолин и оксид цинка с серой и камфорой. Формула ориентирована на абсорбцию избытка себума и уход за жирной кожей; спирт, камфора и очищающий ПАВ могут быть значимы для реактивной кожи.

Уровень внимания к составу

   
▲
НизкийУмеренныйПовышенный

Шкала носит информационный характер и помогает понять уровень внимания к составу с учетом компонентов, которые могут иметь значение при индивидуальной чувствительности.

Основные компоненты

КаолинKaolin
Абсорбирующая минеральная основа очищающей маски.
СераSulfur
Ключевой компонент ухода за жирной и проблемной кожей.
Оксид цинкаZinc Oxide
Дополняет себорегулирующую и успокаивающую направленность.
КамфораCamphor
Отвечает за выраженный освежающий эффект.

Обратите внимание

Спирт и камфораAlcohol SD-40 (Denat.) · Camphor
Могут быть заметны для сухой, чувствительной или реактивной кожи.
Очищающий ПАВSodium Lauryl Sulfate
Может иметь значение при индивидуальной чувствительности и нарушенном барьере.

Полный состав INCI

Water (Aqua), Kaolin, Propylene Glycol, Zinc Oxide, Sulfur, Alcohol SD-40 (Denat.), Cetyl Alcohol, Camphor, Hydroxypropyl Methylcellulose, Cetearyl Alcohol, Polysorbate 20, Quartz, Methylparaben, Sodium Lauryl Sulfate, Paraffin Oil, 2-Bromo-2-Nitropropan-1,3-Diol.

Формула может обновляться производителем; актуальный состав всегда указан на упаковке товара.

Сертификаты качества
  • Мысли тех, кто выбирает лучшее
  • Вопросы и ответы
Мысли тех, кто выбирает лучшее
Отзывов: 0

Отзывы про Распив очищающей маски Holy Land Special Mask

Оставить отзыв
Вопросы и ответы
Вопросы и ответы про Распив очищающей маски Holy Land Special Mask
Задайте вопрос